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美國Cee®勻膠機(jī) 怡和瑞豐

Brewer Science擁有30年的勻膠設(shè)備制造歷史，Cee® 熱板的0.3%的溫度均勻性，和勻膠轉(zhuǎn)速小于0.2rpm轉(zhuǎn)速精度及可重復(fù)性是業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的標(biāo)準(zhǔn)。Cee®設(shè)備擁有多項(xiàng)行業(yè)內(nèi)專利和標(biāo)準(zhǔn)，通過不斷把最新的技術(shù)融入設(shè)備中，Cee®將繼續(xù)成為半導(dǎo)體下一代工藝的領(lǐng)先者。

Cee®在全球擁有超過1500個(gè)客戶，其中包括知名的：杜邦、朗訊、德州儀器、Axcelis Technologies、摩托羅拉、希捷、Sony音樂、IBM 、道康寧、BAE系統(tǒng)公司和IBM等，在中國Cee®品牌也擁有眾多的成功客戶。

勻膠機(jī)主要構(gòu)造
采用無刷伺服電機(jī)，電機(jī)設(shè)計(jì)避免光刻膠等污染物進(jìn)入電機(jī)內(nèi)部。
機(jī)身選用耐酸堿、耐沖擊、耐腐蝕不銹鋼、永不生銹，便于清洗。
排風(fēng)和抽氣系統(tǒng)位計(jì)于載片臺之底部 (以利于排風(fēng)效率和勻膠均一性)。
透明可視,耐化學(xué)腐蝕的密封蓋(丙烯酸材質(zhì))，可以在旋涂作業(yè)時(shí)完全隔絕光阻的溢
出有效隔絕有毒氣味的散發(fā)。

Cee®200X勻膠機(jī)	Cee®200xCB勻膠機(jī)、熱板裝置
Cee®1300熱板	Cee®200D自動(dòng)噴涂顯影/清洗設(shè)備
勻膠機(jī)主要性能指標(biāo)：主機(jī)機(jī)箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）旋涂程序：250，000種程序，無限制程序步驟，每個(gè)步驟可精確到0.1秒轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-12,000rpm(16,000rpm可選) 旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空載）馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1% 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<0.2rpm，重復(fù)性< 0.2rpm 工藝時(shí)間設(shè)定： 0-999.9 sec/step 0.1 精度支持wafer尺寸1cm-200mm 旋涂作業(yè)均勻性：±3%在6英寸范圍內(nèi)(需要去除邊緣3毫米區(qū)域測量）熱板溫控精度：溫控精度: 0.1°C 溫控范圍:室溫-300攝氏度(400攝氏度可選) 溫度均勻性 :±0.3%（工作范圍內(nèi)）熱板工作模式（真空模式、接近模式、接觸模式）部分選件：可加裝背后清洗、去邊裝置可程控自動(dòng)點(diǎn)膠裝置（容量30-50ml,360ml,1GL）噴涂顯影裝置（噴液、吹氮、去離子水）精確溫度曲線控制惰性氣體環(huán)境加熱固化
Cee® 200FX大尺寸勻膠機(jī) (可用于TFT-LCD勻膠)	Cee® 200HD超重襯底勻膠機(jī)
勻膠機(jī)主要性能指標(biāo) 主機(jī)機(jī)箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）旋涂程序：700種程序（200FX），每個(gè)程序15步，每個(gè)步驟可精確到0.1秒旋涂程序：250種程序（200HD），每個(gè)程序15步，每個(gè)步驟可精確到0.1秒轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-6,000rpm(12,000rpm可選) 旋涂加速度：0-30000rpm/sec 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度0.2rpm，重復(fù)性< 0.2rpm 工藝時(shí)間設(shè)定： 0-999.9 sec/step 0.1 精度支持大尺寸TFT-LCD勻膠工藝16”x16“方片（200FX系列）支持wafer最大17“圓片，12”x12“方片（200HD系列）適用于FPD襯底和較重襯底（200HD系列）的化學(xué)試劑涂布特殊的卡盤設(shè)計(jì)，可保證大尺寸Substrate邊緣效應(yīng)最小化。選件：可程控自動(dòng)點(diǎn)膠裝置（多種30-50ml,360ml,1GL）可編程的吮吸系統(tǒng) (Programmable Suckback System) 可以防止多余的膠從管嘴溢出。可加裝背后清洗、去邊裝置和噴涂顯影裝置. 產(chǎn)品可加裝噴嘴，可同時(shí)適用多種材料的光刻材料及去離子水清洗功能。