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    包郵 關注:807

    MEMS專用EVG光刻機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

    產(chǎn)品品牌

    EVG

    規(guī)格型號：

    EVG610單面/雙面光刻機

    發(fā)貨期限：

    6個月天

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    ￥1.00
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付
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    品牌：EVG

    型號：EVG610單面/雙面光刻機

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-雙面光刻機

     u 支持背面對準光刻和鍵合對準工藝

    u 自動的微米計控制曝光間距

    u 自動契型補償系統(tǒng)

    u 優(yōu)異的全局光強均勻度

    u 免維護單獨氣浮工作臺

    u 最小化的占地面積

    u Windows圖形化用戶界面

    u 完善的多用戶管理（用戶權限、界面語言、菜單和工藝控制）

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    提問:
     
    問

    請問你們這個CCD對準精度多高？襯底尺寸 規(guī)格一般都是多少？

    gookjll  2017-08-07

    答

     您好！

    可否留下您的聯(lián)系方式

    我給您詳細的技術參數(shù)！

    謝謝

    8寸以下兼容 對準精度 頂部0.5um  底部 1um 

    婁 13122976482

    2017-08-07

    問

    基片的尺寸范圍多大？分辨率、對準精度多高？

    sjfh  2017-08-14

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品：

    服務熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

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