觀察倍率15X～3000X（視目鏡和物鏡的組合而定）

        ECLIPSE L200N 反射照明專用           

     ECLIPSE L200ND 反射.透射照明專用

擴(kuò)大檢查范圍的反射熒光觀察（L200ND）新

反射照明觀察，除可進(jìn)行明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉觀察之外，更可進(jìn)行UV（365nm)激發(fā)的反射熒光觀察。

對(duì)于半導(dǎo)體感光薄膜的殘?jiān)?、有機(jī)EL顯示面板的觀察發(fā)揮了很大的威力。

使用物鏡：CFI LU PLAN FLUOR 10X

 硅片的明場(chǎng)觀察       暗場(chǎng)觀察           微分干涉觀察       反射熒光觀察

反射熒光觀察用的電動(dòng)水銀光纖光源[INTENSILIGHT](L200ND)

 光源采用了預(yù)定心電動(dòng)水銀光纖光源[INTENSILIGHT]。更換燈泡時(shí)不用進(jìn)行燈絲調(diào)心和對(duì)焦。

燈箱可與主機(jī)分離設(shè)置，以降低光源發(fā)熱對(duì)顯微鏡的影響。6段式的調(diào)光機(jī)能和快門機(jī)能，實(shí)現(xiàn)了良好的操作性。

約2000小時(shí)超長(zhǎng)使用壽命的燈泡大幅降低了使用成本。

 操作性能提升、理環(huán)保

比12V100W更亮的高亮度12V50W鹵素?zé)?nbsp;新

采用了12V50W的[LV-LH50PC預(yù)定心燈箱]，與12V100W相比，耗電量削減了約一半，又可達(dá)到與其同等甚至更亮的亮度。

燈絲位置經(jīng)過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)，且燈箱里有反光鏡，使照明視場(chǎng)均勻，并提高照明效率。特別是用到50倍以的高倍物鏡時(shí)，能得到比12V100W亮約20%的觀察圖象。

更環(huán)保，也能防止因熱量而造成的焦面偏移的干擾。

抗污染的防靜電涂層 新

主機(jī)、載物臺(tái)、鏡筒均涂有消靜電涂層。為了提高抗污染能力，防止工件因靜電感應(yīng)而受損，從而提高成品率。

可調(diào)節(jié)到最佳位置進(jìn)行觀察的正立調(diào)傾式三目鏡筒

視場(chǎng)數(shù)25的超大視場(chǎng)，可任意設(shè)定0～30°的觀察角度。根據(jù)使用者體型和觀察姿勢(shì)的不同，可將三目鏡筒調(diào)節(jié)到最佳位置松隨意的進(jìn)行觀察。

 載物臺(tái)微調(diào)手輪無(wú)需移動(dòng)工件

不用移動(dòng)工件，載物臺(tái)微調(diào)手柄位置固定于顯微鏡主機(jī)操作部旁。

所有的操作部都盡在手邊，移動(dòng)載物臺(tái)、對(duì)焦等顯微操作，不用抬手，只需動(dòng)動(dòng)手腕就可輕松執(zhí)行。

耐久性比以前高3倍的電動(dòng)通用物鏡轉(zhuǎn)換器 新

最多可以安裝到6個(gè)物鏡。和偏心較小的物鏡結(jié)合使用，用高倍物鏡觀察時(shí)切換倍率也很少會(huì)出現(xiàn)圖象閃動(dòng)現(xiàn)象。

從低倍到高倍的自由切換更穩(wěn)定?？紤]到使用者，在旋轉(zhuǎn)物鏡轉(zhuǎn)換器時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。

對(duì)焦目標(biāo)

對(duì)焦目標(biāo)可移入光路，這一特性對(duì)于裸硅片之類的低對(duì)比度工件的正確對(duì)焦成為方便。

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顯微鏡操作部位集中于底座前部

操作手輪、按鍵等，都集中于底座前部，更便于使用。一看就能快捷高效的進(jìn)行顯微操作。大大減輕了長(zhǎng)時(shí)間觀察的疲勞感。

獲取最佳圖象，提升與顯微鏡用數(shù)碼相機(jī)的聯(lián)動(dòng)力

 實(shí)現(xiàn)了從觀察到圖象拍攝、分析的最佳整體化

  ·尼康開(kāi)發(fā)提供了便于使用的顯微鏡、數(shù)碼相機(jī)和軟件一體化的高機(jī)能設(shè)備系統(tǒng)。

  ·支持從設(shè)定最佳觀察條件，到數(shù)碼拍攝→處理→分析的整個(gè)流程。

用于LSI檢查顯微鏡 ECLIPSE L200N

Wafer Loader NWL200系列    

 與ECLIPSE L200N相結(jié)合，對(duì)應(yīng)最新的硅片檢查需要。

 運(yùn)用獨(dú)立的尼康高端技術(shù)，穩(wěn)定傳輸超薄型100um硅片。