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    包郵 關(guān)注:1823

    PVA TePla 微波等離子體去膠機(jī) IoN Wave 10

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    真空等離子清洗機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    PVA TePla

    發(fā)貨期限：

    90天天

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：PVA TePla

    型號：

    所屬系列：真空等離子清洗機(jī)

    PVA TePla微波等離子體去膠機(jī)

    IoN Wave 10 等離子體去膠機(jī)是PVA TePla 在微波等離子體處理工藝中的最新產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適用、性能先進(jìn)。其使用最新的、性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。其工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)最嚴(yán)格的質(zhì)量控制。占地面積小，安裝維護(hù)簡單。依靠微波等離子體技術(shù)，該設(shè)備在提供極高的光刻膠灰化速度的同時，最大程度較低了產(chǎn)品暴露在靜電中風(fēng)險。

    型號：IoN Wave 10， PS210,

    典型應(yīng)用：

    去除光刻膠 Photo-resist stripping

    去除殘膠 Wafer descum

    晶圓和襯底的清潔 Wafer and substrate cleaning

    su-8灰化 Su-8 ashing

    氮化硅、聚酰亞胺等的刻蝕 Etching of silicon nitride, pi, etc.

    刻蝕鈍化層 Etching of passivation layers

    逆向分析/失效分析中的器件開封 Device decapsulation for failure analysis

    微量分析中低溫材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysision_wave_10_stripe11

    過濾器和薄膜的清潔 Cleaning of filters and membranes

     


    規(guī)格參數(shù)：

    2.45GHz風(fēng)冷微波電源（0～600w可調(diào)），

    石英或陶瓷腔體，

    防腐蝕不銹鋼MFC,

    多至6路氣體，

    兼容8英寸及以下晶圓

    PC 工控機(jī)控制，運(yùn)行數(shù)據(jù)自動存儲；分級控制權(quán)限，防止操作

    圖形化觸控屏界面，運(yùn)行狀態(tài)圖形化實(shí)時顯示。

    自動/手動隨意切換

    可選配法拉第桶

    可選配溫控系統(tǒng)

    可選配壓力控制系統(tǒng)

    外形尺寸：775×749×781 mm

     


    認(rèn)證：

    CE 認(rèn)證

    EN 61010

    EN 61326

    Semi E95

    ISO 9001

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