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等離子體刻蝕機(jī) 北京中科信電子裝備有限公司
等離子體刻蝕(PE)是指利用能與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)的氣體,通過輝光放電使之形成低溫等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料未被掩蔽的部分或蝕刻表面。屬干法刻蝕設(shè)備。
等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材,甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、等離子體清洗,等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低,因此,低壓等離子體也能處理敏感性材料。
主要工作特點(diǎn):
1.采用ICP技術(shù),獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),減少射頻干擾,提高了刻蝕速率及工藝穩(wěn)定性;
2.獨(dú)特的密布小孔噴淋式設(shè)計(jì),擴(kuò)大了刻蝕范圍,并且提高刻蝕的均勻性;
3.先進(jìn)的干式真空系統(tǒng)減少了油氣污染,大大提升了刻蝕的良品率;
4.具有手動(dòng)/自動(dòng)操作模式,方便靈活;
5.結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。
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